小盾知識(shí)產(chǎn)權(quán)專家回復(fù)
技術(shù)交底書按下述八個(gè)部分撰寫:
1、發(fā)明名稱:簡(jiǎn)短、準(zhǔn)確地表明發(fā)明的技術(shù)主題,字?jǐn)?shù)在25個(gè)字以內(nèi);
該名稱應(yīng)清楚簡(jiǎn)明地反映發(fā)明創(chuàng)造的主題及類型,不得使用人名、地名、商標(biāo)、型號(hào)或商品名稱,也不得使用商業(yè)性宣傳用語(yǔ)。
2、技術(shù)領(lǐng)域:本發(fā)明創(chuàng)造所屬或直接應(yīng)用的技術(shù)領(lǐng)域;
應(yīng)寫明發(fā)明創(chuàng)造直接所屬或直接應(yīng)用的技術(shù)領(lǐng)域,而不是上位的或相鄰的技術(shù)領(lǐng)域,也不是發(fā)明或是實(shí)用新型本身。例如:本發(fā)明涉及一種理療裝置,或本發(fā)明涉及微生物的制備方法。
3、背景技術(shù):寫明對(duì)本發(fā)明創(chuàng)造的理解、檢索、審查有用的現(xiàn)有技術(shù),客觀地指出現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題和缺點(diǎn),為本發(fā)明創(chuàng)造的目的提出奠定基礎(chǔ);
盡可能舉出對(duì)發(fā)明創(chuàng)造的理解、檢索以及審查有用的1到2項(xiàng)最相關(guān)的國(guó)內(nèi)外現(xiàn)有技術(shù),就其目的、技術(shù)措施(或構(gòu)成)和效果三方面進(jìn)行敘述,其中效果部分需要將其缺點(diǎn)客觀描述。上述最相關(guān)技術(shù)如果是專利文獻(xiàn)則要寫清國(guó)別和專利號(hào);如果是書籍則要寫明書名、作者、出版者、版次和頁(yè)碼;如果是期刊則要說(shuō)明期刊名稱,卷號(hào)、期號(hào)和頁(yè)碼。
4、發(fā)明目的:用正面、簡(jiǎn)潔的語(yǔ)言描述本發(fā)明創(chuàng)造所要解決的具體課題,說(shuō)明發(fā)明創(chuàng)造所要解決的技術(shù)問(wèn)題,或者所要克服的現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷;
5、技術(shù)方案及發(fā)明要點(diǎn):清楚完整地說(shuō)明為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題或完成本發(fā)明的任務(wù)而采取的所有新的技術(shù)手段和措施;
詳細(xì)說(shuō)明所采用的總體技術(shù)方案和不同于現(xiàn)有技術(shù)的各個(gè)方面。代理人會(huì)為申請(qǐng)人保密,并會(huì)指導(dǎo)申請(qǐng)人(或發(fā)明人)如何保留技術(shù)訣竅。產(chǎn)品發(fā)明要指出產(chǎn)品的組成或結(jié)構(gòu)、各零件的位置、零件間的相互關(guān)系、原料、規(guī)格、參數(shù)、原理和用途等。方法發(fā)明要指出工藝流程、步驟、原料組成和配方、工藝參數(shù)、產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)、檢測(cè)方法和實(shí)驗(yàn)結(jié)果等。配方及參數(shù)最好用范圍表示。
6、有益效果:本發(fā)明創(chuàng)造與現(xiàn)有技術(shù)相比,所具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果;
指出技術(shù)上的優(yōu)點(diǎn)和效果,可以舉例如:產(chǎn)量、品質(zhì)、收率(產(chǎn)率)、質(zhì)量、精度、效率、抗病性等提高的數(shù)據(jù)說(shuō)明,也可以用節(jié)省能源、原材料、有利于環(huán)保、降低勞動(dòng)強(qiáng)度、縮短生育期等的數(shù)據(jù)說(shuō)明。最好通過(guò)和現(xiàn)有技術(shù)的比較來(lái)說(shuō)明效果。指出區(qū)別和依據(jù),依據(jù)可以是理論上的推導(dǎo)或結(jié)構(gòu)特點(diǎn)的分析,也可以是具體的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。當(dāng)采用實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)時(shí),應(yīng)給出必要的試驗(yàn)條件和方法。
7、附圖及其簡(jiǎn)要說(shuō)明:包括示意圖、流程圖、框圖和電路圖等等;
附圖可以是工藝流程圖、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)示意圖等,附圖上不能有文字和尺寸、也不要有元件值。對(duì)機(jī)械圖,將各部件用引出線通過(guò)阿拉伯?dāng)?shù)字統(tǒng)一標(biāo)號(hào);對(duì)電路圖,在原件旁標(biāo)注原件符號(hào)及順序標(biāo)號(hào)(如:R1、R2,在元件管腳旁邊用數(shù)字標(biāo)號(hào)如:1、2、3、……等)。附圖應(yīng)在A4紙上用黑筆繪制或用計(jì)算機(jī)打印。
發(fā)明專利可以視發(fā)明內(nèi)容有或沒(méi)有附圖,實(shí)用新型必需有附圖(示意圖)。
附圖說(shuō)明是對(duì)附圖的描述性文字。說(shuō)明書有附圖的,應(yīng)指出附圖名稱,附圖中各標(biāo)記的含義。局部剖視圖要單獨(dú)編出視圖標(biāo)號(hào)和給出名稱,并單獨(dú)說(shuō)明。
8、實(shí)施例:一個(gè)或多個(gè)實(shí)施本發(fā)明創(chuàng)造的最佳實(shí)施方案。
這一部分要給出發(fā)明創(chuàng)造的最佳實(shí)施方案,是技術(shù)方案的具體化,要求內(nèi)容十分具體,所有的配方及參數(shù)通常都是一個(gè)具體的點(diǎn)(而不是一個(gè)范圍),實(shí)施例可以是一個(gè),也可以是多個(gè),實(shí)施例越多越有利于獲得寬范圍的保護(hù),一般要求3個(gè)以上。有時(shí)可以將一個(gè)實(shí)施例理解為一次試驗(yàn)的詳細(xì)記錄,轉(zhuǎn)變改變一種或多種原料,或者改變一個(gè)或多個(gè)實(shí)驗(yàn)參數(shù)再做一次試驗(yàn),就是另一個(gè)實(shí)施例。實(shí)施例的詳細(xì)程度類似于學(xué)生實(shí)驗(yàn)的教科書,要清楚到普通技術(shù)人員閱讀后能夠按照所說(shuō)明的內(nèi)容重復(fù)出來(lái)。
- 問(wèn): 請(qǐng)問(wèn),有外觀專利的產(chǎn)品 、相似度 、達(dá)到多少、 算侵權(quán)?
- 問(wèn): 專利年費(fèi)多久不交就失效了?
- 問(wèn): 如果一個(gè)產(chǎn)品在沒(méi)有申請(qǐng)外觀專利之前已經(jīng)廣泛使用是否構(gòu)成侵權(quán)
- 問(wèn): 股東個(gè)人如何無(wú)償轉(zhuǎn)讓專利給公司?
- 問(wèn): 申請(qǐng)實(shí)用新型專利需要公開技術(shù)嗎?
- 問(wèn): 專利失效后可以重新再申請(qǐng)嗎?
- 問(wèn): 實(shí)用新型專利和發(fā)明同時(shí)申請(qǐng),實(shí)用新型不繳費(fèi)發(fā)明授權(quán)受影響嗎?
- 問(wèn): pct專利是什么意思?pct專利它一但申請(qǐng)了有怎好處,有條件嗎?
- 問(wèn): 只有一個(gè)大概的想法,可以申請(qǐng)專利嗎?
- 問(wèn): 如何同時(shí)申請(qǐng)國(guó)內(nèi) 國(guó)外專利如何申請(qǐng)
- 問(wèn): 在本人的指導(dǎo)下完成的開發(fā),專利屬于公司還是個(gè)人?
- 問(wèn): APP專利申請(qǐng)可以嗎?
- 問(wèn): 我發(fā)明了一個(gè)東西,怎么申請(qǐng)專利,專利申請(qǐng)流程?
- 問(wèn): 外觀專利實(shí)用新型專利發(fā)明專利年費(fèi)滯納金的產(chǎn)生及如何繳納?
- 問(wèn): 實(shí)用新型專利可以續(xù)期嗎
- 問(wèn): 個(gè)人專利費(fèi)用減緩證明有模板嗎
- 問(wèn): 一款產(chǎn)品在國(guó)內(nèi)生產(chǎn)過(guò),我們可以申請(qǐng)產(chǎn)品專利嗎
- 問(wèn): 專利信息在哪里查詢
- 問(wèn): 發(fā)明專利的實(shí)質(zhì)審查需要在申請(qǐng)專利時(shí)就提出嗎?
- 問(wèn): 外觀專利申請(qǐng),同一個(gè)構(gòu)圖,不同顏色,是否不同顏色的都需要進(jìn)行專利申請(qǐng),不申請(qǐng)有無(wú)弊端,申請(qǐng)了有哪些好
- 問(wèn): 專利變更如何辦理?
- 問(wèn): 發(fā)明專利申請(qǐng)多久可以下證書?
- 問(wèn): 專利許可中的專利強(qiáng)制許可說(shuō)的是什么?代表著什么意思?
- 問(wèn): 什么是發(fā)明專利?
- 問(wèn): 專利申請(qǐng)沒(méi)有通過(guò)怎么辦?
- 問(wèn): 實(shí)用新型專利申請(qǐng)需要多長(zhǎng)時(shí)間能申請(qǐng)下來(lái)呢?
- 問(wèn): 什么是實(shí)用新型專利,哪些發(fā)明創(chuàng)造可以申請(qǐng)實(shí)用新型專利?
- 問(wèn): 個(gè)人名義申請(qǐng)專利和公司名義申請(qǐng)專利有什么區(qū)別呢?
- 問(wèn): 專利申請(qǐng)中如何確定申請(qǐng)發(fā)明專利還是申請(qǐng)實(shí)用新型專利?
- 問(wèn): 專利獲取價(jià)值有哪些途徑?
- 問(wèn): 虛擬現(xiàn)實(shí)游戲中的哪些交互設(shè)計(jì)申請(qǐng)專利重點(diǎn)在哪里?
- 問(wèn): 發(fā)明和實(shí)用新型專利的區(qū)別在哪里?
- 問(wèn): 專利申請(qǐng)被駁回的常見(jiàn)原因有哪些?
- 問(wèn): 增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)在教育領(lǐng)域的哪些應(yīng)用可以申請(qǐng)專利?
- 問(wèn): 專利什么情況下會(huì)產(chǎn)生滯納金
- 問(wèn): 康復(fù)輔助器具的哪些人性化設(shè)計(jì)可以申請(qǐng)專利?
- 問(wèn): 如何確認(rèn)專利申請(qǐng)已成功提交?
- 問(wèn): 專利申請(qǐng)費(fèi)用可以減免嗎?
- 問(wèn): 發(fā)明專利和實(shí)用新型專利哪個(gè)更容易申請(qǐng)?
- 問(wèn): 在本人的指導(dǎo)下完成的開發(fā),專利屬于公司還是個(gè)人?
- 問(wèn): 專利申請(qǐng)前如何避免技術(shù)泄露?
- 問(wèn): 專利申請(qǐng)可以自己辦理還是必須委托代理機(jī)構(gòu)?
- 問(wèn): 申請(qǐng)外觀專利時(shí)的其具體流程是怎么樣的?
- 問(wèn): 專利法中 “新穎性” 的核心含義是什么?哪些情形會(huì)導(dǎo)致發(fā)明創(chuàng)造喪失新穎性?
- 問(wèn): 專利申請(qǐng)的費(fèi)用包括哪些?
- 問(wèn): 發(fā)明專利公布后至授權(quán)前,申請(qǐng)人享有何種臨時(shí)保護(hù)權(quán)利?
- 問(wèn): 申請(qǐng)專利前需要進(jìn)行檢索嗎?
- 問(wèn): 人工智能申請(qǐng)專利要注意哪些
- 問(wèn): 專利申請(qǐng)的審查員是如何進(jìn)行審查的?
- 問(wèn): 傳感器技術(shù)的哪些高精度檢測(cè)可以申請(qǐng)專利?
- 問(wèn): 個(gè)人辦理專利申請(qǐng)還能減緩嗎?
- 問(wèn): 專利申請(qǐng)被視為撤回后,在什么期限內(nèi)可以請(qǐng)求恢復(fù)權(quán)利?需滿足哪些條件?
- 問(wèn): 眼科手術(shù)器械的哪些精細(xì)操作可以申請(qǐng)專利?
- 問(wèn): 腦機(jī)接口在康復(fù)治療中的哪些應(yīng)用可以申請(qǐng)專利?
- 問(wèn): 基因測(cè)序技術(shù)的哪些改進(jìn)可以申請(qǐng)專利?
- 問(wèn): 如何撰寫能清晰表達(dá)發(fā)明內(nèi)容的說(shuō)明書?
- 問(wèn): 生物識(shí)別技術(shù)在安全領(lǐng)域的哪些新應(yīng)用可以申請(qǐng)專利?
- 問(wèn): 專利代辦處的職能是什么?能否受理所有類型的專利申請(qǐng)?
- 問(wèn): 專利權(quán)人有哪些權(quán)利與義務(wù)
- 問(wèn): 專利申請(qǐng)前需要進(jìn)行哪些市場(chǎng)調(diào)研?
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