權(quán)利要求書是專利申請(qǐng)文件中最重要的組成部分，限定了專利申請(qǐng)文件所要求的保護(hù)范圍。獨(dú)立權(quán)利要求是權(quán)利要求書中最重要的權(quán)項(xiàng)，其限定了專利申請(qǐng)文件所要求的最大的保護(hù)范圍。在專利申請(qǐng)文件中，獨(dú)立權(quán)利要求具有舉足輕重的地位，因此申請(qǐng)人或?qū)＠砣藨?yīng)注重獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫策略，提高獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫質(zhì)量。

一、明確專利技術(shù)問題

結(jié)合《中華人民共和國專利法》、《中華人民共和國專利法實(shí)施細(xì)則》及《專利審查指南》（2010版）中關(guān)于獨(dú)立權(quán)利要求的相關(guān)規(guī)定，獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)至少滿足下列要求：

1.清楚、簡(jiǎn)要地限定獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍；

2.從整體上反映發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷募夹g(shù)方案，記載解決技術(shù)問題的全部必要技術(shù)特征；

3.具有新穎性和創(chuàng)造性。

其中，必要技術(shù)特征是指為解決技術(shù)問題所不可缺少的技術(shù)特征，其總和足以構(gòu)成發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷募夹g(shù)方案，使之區(qū)別于背景技術(shù)中所述的其他技術(shù)方案。由此可知，若要很好地達(dá)到第二點(diǎn)要求，申請(qǐng)人或?qū)＠砣耸紫刃枰鞔_發(fā)明或?qū)嵱眯滦退鉀Q的技術(shù)問題。而技術(shù)問題是背景技術(shù)中所述的其他技術(shù)方案中存在的技術(shù)缺陷。因此撰寫?yīng)毩?quán)利要求之前，需要仔細(xì)分析客戶提供的現(xiàn)有技術(shù)以及自己檢索到的對(duì)比文件，充分理解與客戶的技術(shù)方案最接近的現(xiàn)有技術(shù)，以及最接近的現(xiàn)有技術(shù)存在的技術(shù)問題。

技術(shù)問題的明確有助于從客戶的技術(shù)方案中準(zhǔn)確地鎖定解決技術(shù)問題的核心技術(shù)特征，即區(qū)別于最接近的現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別技術(shù)特征。在撰寫?yīng)毩?quán)利要求時(shí)，必須將解決技術(shù)問題的核心的區(qū)別技術(shù)特征放入獨(dú)立權(quán)利要求內(nèi)，這些區(qū)別技術(shù)特征也是實(shí)現(xiàn)獨(dú)立權(quán)利要求具備新穎性和創(chuàng)造性的關(guān)鍵。

對(duì)于除區(qū)別技術(shù)特征以外的其他必要技術(shù)特征，可以通過排除法來確定一個(gè)技術(shù)特征是否為必要技術(shù)特征。即分析客戶提供的技術(shù)方案中包括的除上述區(qū)別技術(shù)特征外的每個(gè)技術(shù)特征，若將一個(gè)技術(shù)特征放入獨(dú)立權(quán)利要求，獨(dú)立權(quán)利要求所記載的各個(gè)步驟能夠順暢執(zhí)行且能夠解決技術(shù)問題。而不將該技術(shù)特征放入獨(dú)立權(quán)利要求時(shí)，獨(dú)立權(quán)利要求所記載的各個(gè)步驟無法連貫執(zhí)行，則可以確定該技術(shù)特征為必須放在獨(dú)立權(quán)利要求中的必要技術(shù)特征。

專利撰寫權(quán)利要求

確定出所有的必要技術(shù)特征之后，就可以開始獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫。在撰寫過程中需要特別注意的就是獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍。申請(qǐng)人總希望專利申請(qǐng)能夠獲得最大的保護(hù)，因此，筆者認(rèn)為，在撰寫?yīng)毩?quán)利要求時(shí)，應(yīng)在保持新穎性及創(chuàng)造性的前提下盡力寫出一個(gè)保護(hù)范圍較寬的獨(dú)立權(quán)利要求，基于此，在撰寫時(shí)不能局限于發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷木唧w實(shí)施方式，而是應(yīng)盡可能采用概括性描述來撰寫?yīng)毩?quán)利要求。

在具體專利撰寫時(shí)，對(duì)于一個(gè)必要技術(shù)特征，首先分析是否存在能夠達(dá)到相近或相同效果的類似結(jié)構(gòu)或特征，如果存在，則將該必要技術(shù)特征與類似結(jié)構(gòu)或特征進(jìn)行上位概括。但是對(duì)于區(qū)別技術(shù)特征，在概括時(shí)需要特別注意是否概括導(dǎo)致區(qū)別技術(shù)特征喪失區(qū)別性，如果是，則不能對(duì)區(qū)別技術(shù)特征與類似結(jié)構(gòu)或特征進(jìn)行上位概括。

對(duì)于每個(gè)必要技術(shù)特征都通過類似結(jié)構(gòu)或特征的分析之后，還可以通過合并特征來進(jìn)一步擴(kuò)大獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍。即將多個(gè)步驟合并為一個(gè)步驟。例如，兩個(gè)步驟：根據(jù)A和B獲取C；對(duì)C進(jìn)行特殊處理得到D。則可以將這兩個(gè)步驟合并為：根據(jù)A和B獲得D。但是在合并特征時(shí)，同樣需要特別注意區(qū)別技術(shù)特征的合并，如果步驟合并導(dǎo)致區(qū)別技術(shù)特征喪失了區(qū)別性，則不能進(jìn)行該涉及區(qū)別技術(shù)特征的步驟合并。

如何專利合案申請(qǐng)

很多專利申請(qǐng)通常進(jìn)行合案申請(qǐng)，即一件專利申請(qǐng)中包含多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求，所以在撰寫?yīng)毩?quán)利要求時(shí)，還需考慮與并列獨(dú)立權(quán)利要求之間是否具備單一性。即必須體現(xiàn)出獨(dú)立權(quán)利要求與其并列的獨(dú)立權(quán)利要求具有同一發(fā)明構(gòu)思。通常存在兩種合案申請(qǐng)情況，一種是多個(gè)并列的獨(dú)立權(quán)利要求為不同類型的發(fā)明，如產(chǎn)品及制造該產(chǎn)品的方法，方法或?qū)崿F(xiàn)該方法的裝置或設(shè)備。另一種是多個(gè)并列的獨(dú)立權(quán)利要求為同一類型的發(fā)明，如同為方法，或同為產(chǎn)品。

對(duì)于同一類型的合案申請(qǐng)，后面的獨(dú)立權(quán)利要求可以直接引用第一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求，或者在后面的獨(dú)立權(quán)利要求中直接描述第一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求中的產(chǎn)品或方法。對(duì)于不同類型的合案申請(qǐng)，各并列的獨(dú)立權(quán)利要求記載的技術(shù)方案中，必須存在反映對(duì)現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻(xiàn)的相同或相應(yīng)的特定技術(shù)特征。在并列的獨(dú)立權(quán)利要求之間，特定技術(shù)特征可以相互對(duì)應(yīng)。例如，電學(xué)中終端和服務(wù)器雙側(cè)布置權(quán)利要求時(shí)，在兩個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求中分別在終端角度和服務(wù)器角度描述區(qū)別技術(shù)特征。

申請(qǐng)人或?qū)＠砣俗珜懗霰Ｗo(hù)范圍合適且具備一定新穎性和創(chuàng)造性的獨(dú)立權(quán)利要求后，還需要對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求的語言表達(dá)進(jìn)行反復(fù)斟酌，逐句逐詞地考慮每個(gè)特征是否是解決技術(shù)問題、實(shí)現(xiàn)技術(shù)效果的必要技術(shù)特征，刪除與解決技術(shù)問題沒有直接關(guān)系的句子或單詞，盡量去除不必要的限制，以使最終撰寫的獨(dú)立權(quán)利要求完整、簡(jiǎn)潔、嚴(yán)謹(jǐn)。

當(dāng)獨(dú)立權(quán)利要求完成時(shí)，整個(gè)專利申請(qǐng)的基石就完成了。后續(xù)的從屬權(quán)利要求和說明書的撰寫都是圍繞獨(dú)立權(quán)利要求進(jìn)行的。撰寫從屬權(quán)利要求和說明書的過程中，若發(fā)現(xiàn)獨(dú)立權(quán)利要求存在實(shí)質(zhì)性缺陷，則必須重新斟酌獨(dú)立權(quán)利要求，對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求進(jìn)行修改，以修正其存在的實(shí)質(zhì)性缺陷。

鑒于獨(dú)立權(quán)利要求在專利申請(qǐng)中的重要地位，在撰寫專利申請(qǐng)文件時(shí)，申請(qǐng)人和專利代理人應(yīng)多花費(fèi)一些時(shí)間，耐心撰寫好獨(dú)立權(quán)利要求，不斷提高獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫水平。

二、專利權(quán)利要求書有哪些類型

權(quán)利要求書的一般要求書可分為獨(dú)立權(quán)利要求與從屬權(quán)利要求兩種。

（一）獨(dú)立權(quán)要求

獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)從整體上反映出發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷闹饕夹g(shù)內(nèi)容，它包括全部的必要技術(shù)特征，其本身可以獨(dú)立存在。它的技術(shù)特征的集合是該專利的最大保護(hù)范圍，第三人生產(chǎn)的產(chǎn)品只要不用到其中的任何一個(gè)技術(shù)特征所不構(gòu)成專利侵權(quán)，因此在獨(dú)立權(quán)利要求中切勿寫入任何非必要的技術(shù)特征，否則將不構(gòu)成侵權(quán)；同時(shí)，也切勿將權(quán)利要求（尤其是實(shí)用新型專利權(quán)利要求書）寫得較為寬廣，使之其權(quán)利不穩(wěn)定，易于被無效，新法修改后即更會(huì)遭遇公知技術(shù)抗辯。

（二）從屬權(quán)要求

從屬權(quán)利要求是引用獨(dú)立權(quán)利要求或幾項(xiàng)權(quán)利要求的全部技術(shù)特征，又含有若干新的技術(shù)特征的權(quán)利要求，從屬權(quán)利要求必須依從于獨(dú)立權(quán)利要求或者在前的從屬權(quán)利要求。

每一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求可以有若干個(gè)從屬權(quán)利要求。有多項(xiàng)權(quán)利要求的應(yīng)當(dāng)甩阿拉伯?dāng)?shù)字順序編號(hào)。編號(hào)時(shí)獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)排在前面，它的從屬權(quán)利要求緊隨排在后面。

三、專利權(quán)利要求書怎么寫

1、獨(dú)立權(quán)利要求分兩部分撰寫。一是前序部分：寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦鸵蟊Ｗo(hù)的主題名稱和該項(xiàng)發(fā)明或?qū)嵱眯滦团c現(xiàn)有技術(shù)共有的必要技術(shù)特征；二是特征部分：寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛥^(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)特征，這是權(quán)利要求的核心內(nèi)容，這部分應(yīng)緊接前序部分，用“其特征是……”或者類似用語與上文聯(lián)接。前序部分和特征部分共同限定發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷谋Ｗo(hù)范圍。

2、從屬權(quán)利要求也分兩個(gè)部分撰寫。一是引用部分：寫明被引用的權(quán)利要求的編號(hào)及發(fā)明或?qū)嵱眯滦椭黝}名稱。例如：“根據(jù)權(quán)利要求1所述……”；二是限定部分：寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦透郊拥募夹g(shù)特征，它是獨(dú)立權(quán)利要求的補(bǔ)充，以及對(duì)引用部分的技術(shù)特征作進(jìn)一步的限定。也應(yīng)當(dāng)以“其特征是……”連接上文。通常，從屬權(quán)利要求書應(yīng)盡可能從多方面角度來補(bǔ)充、完善該專利的技術(shù)特征。

3、權(quán)利要求書撰寫中常見的錯(cuò)誤。純功能性的權(quán)利要求，這是初寫者常出現(xiàn)的錯(cuò)誤。通常情況下，產(chǎn)品必須用結(jié)構(gòu)型的技術(shù)特征來撰寫權(quán)利要求，方法必須用步驟或條件式權(quán)利要求，不能采用功能或混合式，這種寫法容易超出說明書范圍，擴(kuò)大了保護(hù)范圍。